集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。光刻机是半导体行业的关键设备，因为它决定了光刻工艺的水平。工欲善其事，必先利其器，要想开发先进的半导体制程，就必需要有先进的光刻机。

近日，中国企业突破芯片技术封锁的好消息应接不暇。

大陆半导体制造公司“喜提”光刻机

中芯国际：1.2亿美元从荷兰ASML订购EUV极紫外光刻机

据报道，芯片机器制造商、荷兰的阿斯麦（AMSL）证实，中国向荷兰订购了一台新型的使用EUV（极紫外线）技术的芯片制造机器光刻机，订货单位是中芯国际（SMIC）。这台机器价值1.2亿欧元，与其去年净利润1.264亿美元大致相当。消息来源称，这一设备预计将于2019年年初交付。

分析人士认为，如此次采购成功，将有助于推动中国自主研发半导体生产。对于年营业额达到90亿欧元的阿斯麦公司来说，来自中国的订单占的分量很小，但这显示了一个趋势，中国要在芯片市场上也要扮演一个角色，不再依赖外来产品。

长江存储：迎来一台光刻机，售价7200万美元

而根据最新消息称，5月20日长江存储也迎来了自己的台光刻机，国产SSD固态硬盘将迎来重大突破。
据悉，这台光刻机同样来自荷兰ASML，193nm沉浸式设计，可生产20-14nm工艺的3DNAND闪存晶圆，售价达7200万美元，约合人民币4.6亿元。

目前，该机已经运抵武汉天河机场，相关入境手续办理完毕后，即可运至长江存储的工厂。

预计，在2019年，力争让我国的存储产业提升到国际领先水平，这个好消息对于消费者来讲，那就是SSD产品的降价了！
后续，长江存储还会引入更多光刻机。 

2016年底，国家存储器基地项目(一期)一号生产和动力厂房在武汉正式开工建设，2017年9月底提前封顶，2018年4月5日一批价值400万美元的精密仪器进场安装。 

目前，长江存储拥有完全自主知识产权的32层堆叠3D NAND闪存已经开始试产，不少产业链企业都拿到了样片测试，预计今年第四季度量产。 

同时，长江存储还在推进64层堆叠3D闪存，力争2019年底实现规模量产，与世界领先水平差距缩短到2年之内。

华虹：12寸晶圆厂装备 沉浸式光刻机，迈向14nm

5月21日上午，在上海浦东新区康桥工业园南区，华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目（“华虹六厂”）实现工艺设备光刻机搬入。

这台光刻机的型号是NXT 1980Di，依然是荷兰ASML提供，后者官方显示，这是一台193nm双级沉浸式光刻机，用于10nm级（14~20nm）晶圆生产，它也是大陆装备的先进的沉浸式光刻设备。

华力微电子官网资料显示，华虹六厂是该司的第二个12英寸晶圆生产线，设计月产能4万片，工艺技术从28nm起步，最终将具备14nm三围工艺的高性能芯片生产能力。

荷兰的ASML到底有多强

以上三家公司的芯片机（光刻机）都是来自同一个公司荷兰的ASML。
荷兰的ASML，中文翻译是阿斯麦，是全球有名的芯片机（光刻机）制造商，生产的机器价值上亿欧元一台，其客户包括IBM、TSMC和Intel等芯片巨头，目前已经占世界市场份额的90%。
台积电、英特尔和三星电子公司已经从ASML订购了许多EUV系统。例如来自供应链消息来源称，就营收而言为芯片代工厂商台积电，今年就预订了10套该系统。三星电子公司预订了约6套EUV系统，而英特尔今年将订购3套。

全球第二大芯片代工厂商GlobalFoundries也预订了一套。ASML在4月中旬的财报电话会议上表示计划今年出货20套EUV系统，但没有指明采购者详情。
根据今年第一季度最新业绩，该厂营业额和盈利都有大幅增长。
该厂第一季度的营业额达到23亿欧元，去年同期只是19亿；盈利有5.4亿，2017年是同期是4.52亿。第二季度估计营业额在25亿至26亿之间。
阿斯麦的光刻机按照使用的光源不同，可以分为DUV光刻机和EUV光刻机。DUV是Deep Ultra Violet，即深紫外光；EUV是Extreme Ultra Violet，即极紫外光。
该厂的前景还相当可观，第一季度的营业额和盈利大增，大部分只是销售传统产品（DUV）的结果，新一代产品（EUV）还没有正式登上舞台，仅完成了三台的制造。不过，订单已经进来了，今年，将生产至少20台，2019年的目标是30台。
这种机器生产的芯片，将使到电子器材的速度更快，容量更大。不过，这种新型机器的问世，将使盈利大幅降低43%左右。
DUV光刻机的极限工艺节点是28nm，要想开发更先进的制程，就只能使用EUV光刻机了。
从2012年开始，光刻机技术没有发生革命性变化，著名的摩尔定律开始失效，半导体行业发展缓慢，2015年甚至出现了2.3%的负增长。半导体行业迫切需要使用EUV来提高光刻能力。
2013年阿斯麦的EUV光刻机研发成功，使用的光源是22nm；2017年更先进的EUV光刻机研成功，使用的光源是13nm，使得7nm线宽的制程可以实现。

小结

要想开发10纳米以下的制程，EUV光刻机是必须的设备，而全球只有阿斯麦一家有EUV光刻机。为了能够顺利买到EUV光刻机，半导体行业三大巨头英特尔、三星和台积电都已经入股了阿斯麦。三星计划2018年开始使用阿斯麦的EUV设备，台积电计划2019开始使用阿斯麦的EUV设备，格罗方德计划2019年使用EUV，英特尔计划2021开始使用7nm工艺。

有传言称基于瓦森纳协议（Verdrag van Wassenaar），荷兰不能出售光刻机给中国的传言。对此ASML发言人表示，公司平等对待对待全球客户，包括中国客户，并且依据瓦圣纳协定，没有限制向中国客户销售EUV光刻机。